没问题！
10n-20n的晶片製程工艺，仅仅是『清洗』这个环节，就有200多个步骤。
这种清洗，使用的水也不是普通的水，而是：超净水！
这种水电阻率无限接近18.24兆欧厘米理论极限的超净水！
这种超纯水几乎不导电、不含任何金属离子、接近绝对纯度，可达12个9：99.9999999999%
集成电路的集成度越高、线宽越窄，对水的纯度要求就越高。
仅仅是这些环境、水质要求，需要的设备和建筑工艺，都是用钱堆出来的。
一个晶圆厂，几十上百亿的投资很正常。
第四代同步辐装置，这种占地960亩的设备，建设成本也就60亿！
晶圆厂要数百亿！
可见整个晶圆代工，这样一个重资產行业竞爭压力有多大。
特別是落后的时候、核心设备光刻机还受制於人……那种压力有多大。
国內谁敢投晶片生產製造投晶圆厂投光刻机！
这个领域就是个无底洞！
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